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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]曝光晶圆的微影系统与方法-CN201910746867.4有效
发明人：廖啟宏;吴旻政 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-08-14 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供了一种曝光晶圆的微影系统与方法。微影方法包括如下步骤。生成EUV光。使用收集器将EUV光聚集到第一光学反射器上。第一光学反射器用于将EUV光反射到光罩，从而赋予EUV光一图案。第二光学反射器用于将具有该图案的EUV光反射到晶圆上。旋转第一光学反射器。
曝光系统方法

[发明专利]使用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微影罩幕-CN200410043514.1无效
发明人：吴忠希;P·斯佩诺;T·A·布伦纳;S·布特 -专利权人：因芬尼昂技术股份公司;国际商业机器公司
申请日： 2004-04-29 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微影罩幕。不一致性及影像缩短于使用一光微影罩幕而印制于一基板上的一影像中实质地被降低，其中罩幕图案系包括相邻于一干净区域的至少一线与空间数组。至少一线特征被并入该罩幕图案的该干净区域之内，并且配置于接近该线与空间数组的位置，该线特征具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度，而该影像系通过使用该光学投影系统照射该光微影罩幕并投射已传输通过该光微影罩幕的光至该基板之上而加以印制
使用光微影罩幕降低印制基板上影像不一致性缩短方法

[发明专利]浸润式微影曝光设备及方法-CN200510115208.9无效
发明人：张庆裕;林建宏;林进祥;鲁定中;林本坚 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2005-11-11 - 公布日： 2007-05-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是有关于一种浸润式微影曝光设备及方法，适用于在浸润式微影期间实质消除曝光液体中的微气泡。该设备包括光学系统，可透过光罩而将光投射至晶圆上。光学转移室邻近于上述的光学系统，以装载曝光液体。至少一百万赫级超音波板可动地接合在光学转移室，以在曝光液体中产生音波，并可以消除曝光液体中的微气泡。
浸润式微曝光设备方法

[发明专利]制造遮罩的方法-CN201910580323.5在审
发明人：黄旭霆;刘如淦;游信胜 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本案是关于一种制造遮罩的方法，包含对一光学系统计算一透射交叉系数矩阵以执行一微影制程、透过基于模拟晶圆图案和经测量的印刷晶圆图案之间的一比较迭代地调整一微影模型来校正该微影模型，以及提供该经校正的微影模型至一遮罩布置合成工具，以取得相应于一目标遮罩布置的一经合成遮罩布置，为着使用该经合成遮罩布置制造该遮罩，该经校正的微影模型包含该理想透射交叉系数核集、该至少二扰动核集以及一抗蚀模型。
遮罩微影校正晶圆图案透射合成光学系统合成工具微影制程系数矩阵扰动迭代一抗制造测量印刷

[实用新型]微影VRS人员漏失改善装置-CN202122161388.1有效
发明人：刘爱斌;李勇江;朱佔涛;唐少林;陈林 -专利权人：昆山鼎鑫电子有限公司
申请日： 2021-09-08 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本申请公开了微影VRS人员漏失改善装置，包括VRS机台，所述VRS机台上方安装有视频光学摄像头、照明源，所述视频光学摄像头、所述照明源均与PC主机相连，所述PC主机连接有显示器，所述视频光学摄像头的摄像方向本申请的微影VRS人员漏失改善装置，能够避免人为判断工件缺点带来的影响，提高工件缺陷点的检测效率和质量。
微影 vrs 人员漏失改善装置

[发明专利]光学微影系统-CN201710641484.1在审
发明人：林华泰;杨育铨;梁文达;陈庆煌;孙启元;王士哲 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-07-31 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光学微影系统，包含：一基底台，用以承载一工件；以及一罩幕，具有多个主要图形与多个次解析辅助图形(sub‑resolution assistant pattern)。此系统还包含一绕射光学元件(diffractive optical element；DOE)，用以将具有上述主要图形的一空中影像(aerial image)的辐射导引至上述工件上。上述绕射光学元件包含第一对的极(pole)，上述第一对的极是沿着一第一方向而相对于上述绕射光学元件的中心为对称配置。
绕射光学元件辅助图形光学微影解析对称配置空中影像此系统基底台导引正交承载辐射

[发明专利]微影系统及其方法-CN202110259188.1在审
发明人：廖啟宏;施柏铭 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在本揭示内容的一些实施方式中，提供一种微影系统及其方法，微影系统包括：辐射源、光罩台、反射式光罩、以及光学元件。辐射源配置以产生辐射光。光罩台包括基座以及位于基座上的光触媒层。光学元件配置以将辐射光照射至反射式光罩上。
系统及其方法

[发明专利]定义集成电路中最小节距使超越光学微影制程分辨率的方法-CN200410062401.6有效
发明人：钟维民 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2004-07-02 - 公布日： 2006-01-04 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：一种定义集成电路中最小节距使超越光学微影制程分辨率的方法，其是在制程中利用聚合物边衬、非感光聚合物填塞及聚合物屏蔽控制目标层被定义的节距，使得该目标层的最小节距超越光学微影制程的分辨率。
定义集成电路小节超越光学微影制程分辨率方法

[发明专利]制造用于集成电路的光微影遮罩的方法-CN201911204439.5在审
发明人：黄旭霆;吴东锦;罗世翔;赖志明;余瑞晋;刘如淦;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种制造用于一集成电路的一光微影遮罩的方法包括对一集成电路遮罩布局执行一光学近接校正(OPC)处理以产生一经校正遮罩布局。该方法进一步包括对该经校正遮罩布局执行一逆光微影技术(ILT)处理以增强该经校正遮罩布局，从而产生一OPC‑ILT增强的遮罩布局。该方法亦包括对该经校正遮罩布局执行一逆光微影技术(ILT)处理以增强该经校正遮罩布局，从而产生一OPC‑ILT增强的遮罩布局。
制造用于集成电路光微影遮罩方法

[发明专利]光学系统及其制造方法-CN200710148827.7无效
发明人：柯正浩 -专利权人：柯正浩
申请日： 2007-09-03 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本发明提供一种光学系统及其制造方法，该光学系统包括输入部，用以接收光学信号，预先设定的输出面；以及绕射光栅，包括绕射表面，用以将该输入部接收的该光学信号分离成多个光谱分量，并且各个光谱分量都会聚焦在该预先设定的输出面，其中该绕射表面由光微影工艺形成。根据本发明的制造光学系统的方法，包括：提供基板；设置盖体于该基板上；提供输入部，用以接收光学信号；定义预先设定的输出面；以及配置绕射光栅元件于该光学系统，该绕射光栅包括绕射表面，用以将该输入部接收的该光学信号分离成多个光谱分量，并且各个光谱分量都会聚焦在该预先设定的输出面，其中该绕射表面由光微影工艺形成。本发明的光学系统可大量制造，并适合长期使用。
光学系统及其制造方法

[发明专利]一种提高光电元件耦合容忍度的方法-CN200510091899.3无效
发明人：何充隆;刘一鸣;林恭政;洪朝基;黄雍勋;杨智超;林佳儒;何文章;廖枝旺 -专利权人：中华电信股份有限公司
申请日： 2005-08-15 - 公布日： 2006-02-08 - 主分类号： G02B6/36 文献下载
摘要：一种提高光电元件耦合容忍度的方法，其通过半导体制作工艺，如微影、沉积、镀着、蚀刻等，在光电元件晶粒上形成一定位及固定用之微球透镜嵌座(Micro Ball－lensSocket)，嵌座中心对应光电元件晶粒的光耦合或输出中心；将微球透镜嵌入晶粒上之微球透镜嵌座后，微球透镜即自动对准晶粒的光耦合或输出中心；通过整合适当之微球透镜，光电元件的后续封装光学耦合容忍度可扩大数倍，甚至可在无特性监测、不倚赖光学对准之状况下，完成光学耦合
一种提高光电元件耦合容忍度方法

[发明专利]双层微透镜阵列光学元件-CN201710686222.7有效
发明人：李永春;简弘量 -专利权人：李永春
申请日： 2017-08-11 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明是有关一种双层微透镜阵列光学元件，其主要是于一基板的一面具有阵列排列的多个针孔结构，且该基板的两面分别具有一光学微透镜阵列，这些微透镜光学阵列均包含多个对应该多个针孔结构位置的非球面微透镜，本发明双层微透镜阵列光学元件使用时，主要是将经由DMD芯片折射的UV光，由晶基板一面的光学微透镜阵列的多个非球面微透镜分别聚焦在各个针孔结构的位置，并形成一个小光点，而光点会在通过针孔结构之后开始发散，接着再由基板另一面的光学微透镜阵列的多个非球面微透镜重新将光束在聚焦面上获得一个逼近物理绕射极限的极小圆形光点极小的光点形成的光点阵列可应用于扫描式的无光罩与直写式的曝光微影制程。
双层透镜阵列光学元件

[发明专利]晶片等级的光学组件对准-CN200780024572.1无效
发明人： A·戈贝尔;L·C·韦斯特;G·L·武伊齐克 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-06-29 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： G02B6/12 文献下载
摘要：本发明揭示制造一光学组件的方法。在一光学材料板的第一表面附近或之上置放一主动式光学组件。于该板的一第二表面上形成一被动式光学组件，该第二表面是大致平行于该第一表面。使用一种微影对准工艺，将该被动式光学组件的光轴对准于该被动光学组件及该主动式光学组件的主动区之间的光学路径。
晶片等级光学组件对准

[发明专利]一种具有光学结构的影木效果热转印膜及其制备方法-CN202111096661.5有效
发明人：肖俊凌 -专利权人：佛山市博偲装饰材料有限公司
申请日： 2021-11-04 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B41M1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种具有光学结构的影木效果热转印膜及其制备方法，包括：通过取影技术制得第一影木光学辊和第二影木光学辊，二者可套花；提供底膜，对底膜涂布第一结构胶，利用第一影木光学辊使第一结构胶产生影纹，形成第一光学结构层；在第一光学结构层依次叠设复合光反离型层和印刷色层，再在印刷色层涂布第二结构胶，利用第二影木光学辊使得第二结构胶产生影纹，形成第二光学结构层；在第二光学结构层涂装或复合形成光反层；在光反层远离第二光学结构层的一侧印刷盖底色层，并在盖底色层涂布胶粘剂层，最后收卷得到影木效果热转印膜。与相关技术相比，本发明的制备方法及制备的影木效果热转印膜木纹明显带动感、逼真度高且环保。
一种具有光学结构效果热转印膜及其制备方法

[实用新型]一种多功能3D变色镜片-CN201821749870.9有效
发明人：匡玉;彭万里;王天亮;王建斌 -专利权人：武汉亮影光学科技有限公司
申请日： 2018-10-27 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： G02C7/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多功能3D变色镜片，属于眼镜光学部件领域，由微晶层、3D偏光层、加硬层、防水层、UV紫外线层和耐磨强化层从上到下排列组成，所述镜片为0.5～2.0mm厚度的非球面镜片，镜片弯度为0～400弯；其中所述微晶层采用卤化银微晶，其厚度为0.03～0.08mm。本实用新型的有益效果是：通过在3D镜片中加入卤化银微晶，使得镜片在太阳光照和3D观影环境中呈现不同的颜色，降低了颜色对3D观影效果的影响。
镜片本实用新型变色镜片卤化银微晶层观影微晶非球面镜片耐磨强化层部件领域从上到下太阳光照眼镜光学防水层加硬层偏光层弯度

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